La lithographie BEUV plus performante que l’EUV ?
Lace Lithography AS (Bergen, Norvège) développe une forme de lithographie qui utilise des atomes tirés sur une surface pour définir des caractéristiques à des résolutions supérieures à ce qui est possible avec la lithographie par ultraviolets extrêmes.
Ce que Lace Litho appelle BEUV permet théoriquement d’obtenir des caractéristiques plus fines, ce qui favorise la miniaturisation continue des transistors et prolonge la loi de Moore.
L’entreprise a été cofondée en juillet 2023 par le PDG, le professeur Bodil Holst de l’université de Bergen, et le directeur technique, Adria Salvador Palau, qui a obtenu son doctorat à l’université de Bergen, mais qui exerce aujourd’hui ses activités à Barcelone, en Espagne.
Les systèmes EUV conventionnels utilisent une lumière d’une longueur d’onde de 13,5 nm pour créer des motifs sur les wafers à l’aide d’une série de miroirs et de masques. La lithographie atomique permet de créer directement des motifs sans masque à des résolutions inférieures à ce qui est possible avec les systèmes EUV à longueur d’onde limitée.
« En utilisant des atomes au lieu de la lumière, nous offrons aux fabricants de puces des capacités 15 ans en avance sur la technologie actuelle, d’une manière plus rentable et avec une empreinte énergétique nettement plus faible », affirme l’entreprise sur son site web.
Salvador Palau et le professeur Holst sont coauteurs d’un article publié dans Physics Review A, intitulé True-to-size surface mapping with neutral helium atoms (cartographie de surface à taille réelle avec des atomes d’hélium neutres). Cet article présente les détails de la mise en œuvre et du fonctionnement d’un microscope stéréo à hélium.
FabouLACE est un projet financé par l’Union européenne visant à développer la lithographie par atomes d’hélium avec masque à force de dispersion, avec un budget de 2,5 millions d’euros fourni par le Conseil européen de l’innovation. Le projet a démarré le 1er décembre 2023 et se poursuivra jusqu’au 30 novembre 2026.
FabouLACE utilise des atomes métastables et des masques basés sur la force de dispersion et permet d’obtenir des caractéristiques de 2 nm. Lace Lithography est chargée de commercialiser la technologie d’ici 2031, selon la Commission européenne. Entre-temps, les performances de la technologie seront contrôlées et validées par l’institut de recherche IMEC en Belgique. NanoLACE était un projet de recherche européen antérieur qui a pris fin le 31 décembre 2024. Ce projet a débuté en 2019 et a reçu 3,36 millions d’euros sur un budget de 3,65 millions d’euros.
Lace Lithography a levé un premier tour de table en juillet 2023 d’environ 450 000 euros, soutenu par Runa Capital, Vsquared Ventures, Future Ventures, le Conseil européen de l’innovation, Innovation Norway et le Conseil norvégien de la recherche.
Jusqu’à présent, l’entreprise a constitué une équipe de plus de 20 physiciens, ingénieurs et opérateurs.
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