ASML et l’IMEC renouvellent un partenariat européen clé
Deux des organisations technologiques leaders en Europe, le fabricant d’équipements de lithographie ASML et l’institut de recherche IMEC, ont renouvelé leur partenariat stratégique et prévoient d’installer des équipements d’une valeur de plusieurs millions de dollars dans la ligne pilote de recherche NanoIC à Louvain, en Belgique.
Dans le cadre d’un accord de cinq ans, les deux organisations ont convenu d’ajouter le développement durable à leurs efforts pour faire progresser la conception et la fabrication des semi-conducteurs.
L’accord porte sur l’ensemble du portefeuille de produits d’ASML, l’accent étant mis sur le développement de nœuds haut de gamme. IMEC et d’autres entreprises utiliseront les systèmes ASML, notamment les technologies EUV 0,55 NA, EUV 0,33 NA, DUV par immersion, la métrologie optique YieldStar et les technologies HMI à faisceau unique et à faisceaux multiples.
L’équipement d’ASML sera installé dans la ligne pilote NanoIC, financée par l’Union européenne et le gouvernement flamand, à l’IMEC de Louvain. Cette ligne servira de plate-forme pour la recherche sur les circuits intégrés de moins de 2 nm ainsi que sur la photonique du silicium, la mémoire et le packaging avancé.
Christophe Fouquet, PDG d’ASML, a déclaré que la recherche profiterait à l’industrie des semi-conducteurs et à la société dans son ensemble. « Étant donné que l’IMEC met fortement l’accent sur l’innovation durable, le fait d’inclure explicitement cette recherche dans notre partenariat est une excellente chose », a déclaré Luc Van den hove, PDG de l’IMEC, dans un communiqué.
Le financement de l’installation de l’équipement ASML est assuré par le contribuable européen via de multiples sources.
L’acquisition et l’exploitation de la ligne pilote NanoIC sont financées conjointement par l’entreprise commune Chips, par l’intermédiaire des programmes Digital Europe (101183266) et Horizon Europe (101183277) de l’Union européenne, ainsi que par les États membres participants : Belgique (Flandre), France, Allemagne, Finlande, Irlande et Roumanie.
La mise à disposition de la technologie de lithographie EUV 0,55 NA à l’IMEC faisait partie du projet Next Gen-7A (IPCEI22201) financé par le gouvernement néerlandais en tant que projet important d’intérêt européen commun (IPCEI).
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