Zaber lance le système de mise au point DMA pour une précision nanométrique accessible aux OEM
Zaber Technologies a annoncé le lancement de son système de mise au point d’objectif DMA, une solution de positionnement linéaire compacte destinée aux fabricants de microscopes et aux intégrateurs OEM. Proposé à partir de 3900 euros avec contrôleur intégré, ce système vise à rendre la précision nanométrique plus accessible, en combinant des performances élevées avec un coût nettement inférieur aux solutions piézoélectriques traditionnelles.
Ce positionnement répond à une demande croissante pour des systèmes d’imagerie capables de concilier précision, rapidité et facilité d’intégration dans des environnements industriels et scientifiques.
Une précision nanométrique avec des performances dynamiques élevées
Le DMA offre une répétabilité de 50 nm et des déplacements incrémentaux minimums de 10 nm, des caractéristiques comparables à celles des systèmes piézoélectriques. Cette précision s’accompagne de performances dynamiques élevées, avec des temps de déplacement et de stabilisation inférieurs à 15 ms, permettant d’optimiser le débit d’imagerie dans des applications exigeantes.
Le système intègre également un contrôleur directement dans un format compact de 77 mm × 100 mm × 30,5 mm, ce qui simplifie son intégration dans des architectures où l’espace est limité.
Une architecture pensée pour accélérer l’intégration OEM
L’un des objectifs majeurs de Zaber avec le DMA est de réduire la complexité d’intégration. Le système peut être mis en mouvement rapidement grâce à une configuration simplifiée reposant sur deux câbles, tandis que les outils logiciels intégrés permettent d’optimiser les performances sans nécessiter de développement spécifique.
L’application Zaber Launcher intègre des fonctions telles que l’analyse de signal et le réglage des servos, facilitant la validation des performances sans programmation. En parallèle, une API moderne et open source permet une intégration rapide dans différents environnements logiciels, avec des exemples disponibles en plusieurs langages comme Python, C# ou C++.
Une connectivité et une synchronisation simplifiées
Le DMA permet une interaction directe avec des équipements tiers grâce à des entrées et sorties intégrées ainsi qu’à des sorties encodeur. Cette capacité facilite la synchronisation avec des capteurs ou d’autres systèmes de positionnement, élément crucial dans les applications d’imagerie haute précision.
La topologie du système permet également une connexion en chaîne avec d’autres modules, comme des platines XY, en utilisant un seul câble d’alimentation et de données, ce qui réduit considérablement la complexité du câblage.
Une solution hybride entre piézo et entraînement direct
Le DMA combine la précision et la rapidité de stabilisation des systèmes piézoélectriques avec la capacité de charge et la course plus importante des systèmes à entraînement direct. Cette approche permet d’obtenir un compromis performant entre dynamique, robustesse et coût.
Cette conception hybride se traduit par une solution capable de répondre à des applications intensives, tout en restant accessible en termes de budget.
Des applications dans l’imagerie avancée et la métrologie
Le DMA est particulièrement adapté à des environnements d’imagerie nécessitant une haute précision, comme la biologie spatiale, la pathologie numérique ou la découverte de médicaments, où les cycles de fonctionnement peuvent être continus et intensifs. Il répond également aux besoins de la métrologie optique et de l’inspection de semi‑conducteurs, où la précision de positionnement peut atteindre le nanomètre.
Une disponibilité immédiate orientée industrialisation
Zaber a mis l’accent sur la disponibilité et la rapidité de déploiement, avec des systèmes livrables en une semaine et des ressources accessibles en ligne, notamment les fichiers CAO. Cette approche vise à faciliter le passage du prototype à la production, un enjeu clé pour les OEM.
Pour les ingénieurs en instrumentation et en systèmes optiques, ce lancement illustre une évolution importante : il devient possible d’accéder à une précision nanométrique avec une intégration simplifiée et un coût réduit, ouvrant la voie à de nouvelles architectures d’imagerie et de mesure hautes performances.
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