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PISTOL : une nouvelle chaire dans le domaine des semi-conducteurs

PISTOL : une nouvelle chaire dans le domaine des semi-conducteurs

Par Daniel Cardon



Ce projet est financé à parts égales par Total et l’Agence Nationale de la Recherche sur une période de quatre ans. Il est porté par Erik Johnson, chercheur CNRS au Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces (LPICM, CNRS / l’École polytechnique).

Les principaux objectifs de la Chaire industrielle PISTOL portent sur la mise en œuvre de nouveaux procédés de traitements par plasma pour les semi-conducteurs. Les procédés basés sur les plasmas sont des techniques largement répandues dans l’industrie pour la croissance contrôlée de matériaux (écrans plats, photovoltaïque, capteurs,…) ou la gravure de très grande qualité en terme d’uniformité sur des surfaces importantes (microélectronique).


Dans ce contexte, PISTOL (Plasma Processing of Industrial SemiconducTOrs at Low Cost) a pour objectif d’enrichir ces procédés en ajoutant un élément de sélectivité en surface et en profondeur, soit pour obtenir un motif particulier de semiconducteur, soit pour appliquer un traitement spécifique à un endroit précis. Il s’agit d’une avancée importante pour les applications dans les domaines du photovoltaïque, de la microélectronique, et des nouvelles générations de capteurs et d’écrans. La chaire industrielle PISTOL vise, à terme, à réduire les coûts de production et à favoriser de nouvelles pistes de recherche sur des architectures innovantes de composants électroniques.

Les activités scientifiques de PISTOL se dérouleront principalement au Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces (LPICM, CNRS / l’École polytechnique). Elles profiteront également des plateformes d’équipements scientifiques installées par les équipes de TOTAL au sein de l’Institut photovoltaïque d’Ile-de-France (IPVF) à Palaiseau. Le financement dédié au projet PISTOL permettra l’engagement de deux chercheurs post-doctorants sur quatre ans et d’un doctorant dont le sujet de thèse portera sur le dépôt sélectif par plasma.

https://www.cnrs.fr/   –   Autres informations concernant le CNRS

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