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Collaboration Samsung Foundry et Arm Expand

Collaboration Samsung Foundry et Arm Expand

Par Alain Dieul



La technologie de gravure 7LPP de Samsung sera prête pour une production initiale au deuxième semestre 2018. La première technologie de lithographie EUV (ultraviolet extrême) et ses IP clés sont en cours de développement et ils doivent être prêts au premier semestre 2019. La technologie 5LPE de Samsung permettra une plus grande réduction d’échelle et des avantages d’une consommation ultra-faible dus aux toute dernières innovations en matière de technologie de gravure 7LPP.
La plateforme IP physique Arm Artisan pour 7LPP et 5LPE de Samsung inclut une architecture logique HD, une suite complète de compilateurs de mémoire et des bibliothèques GPIO 1,8 V et 3,3 V. De plus, pour les technologies de gravure 7LPP et 5LPE de Samsung, Arm fournira des solutions IP Artisan POP sur ses derniers cœurs de processeurs incluant la technologie Arm DynamIQ. Une solution IP POP d’Arm est une technologie d’accélération par durcissement de cœur permettant d’obtenir de meilleures implémentations de processeurs et d’obtenir les délais de lancement les plus rapides.
« Construire un écosystème de conception différent et étendu est un must pour nos clients de fonderie, » a dit Ryan Sanghyun Lee, vice-président de l’équipe marketing Foundry chez Samsung Electronics. « La collaboration avec Arm dans le domaine des solutions IP est essentielle pour augmenter la puissance informatique haute performance et accélérer la croissance de l’intelligence artificielle (IA) ainsi que les capacités d’apprentissage automatique. »
« Arm et Samsung Foundry ont collaboré à un grand nombre de puces utilisant l’IP physique Artisan sur des technologies de gravure de Samsung Foundry, » a déclaré Kelvin Low, vice-président du marketing, Physical Design Group chez Arm. « Les nœuds 7LPP et 5LPE de Samsung Foundry sont des technologies de gravure innovatrices qui satisferont les besoins de nos clients mutuels en matière de système sur puce (SoC) de dernière génération des mobiles aux centres de données   hyperscale. »

La mise à jour récente de la feuille de route fonderie de Samsung, du développement de l’EUV en 7nm à la technologie 3GAAE* (3nm Gate-All-Around Early), et des solutions d’optimisation de la conception de premier ordre ont été présentées au Samsung Foundry Forum 2018 Corée le 5 juillet 2017, à Séoul. Les Samsung Foundry Forums se sont tenus aux États-Unis et en Chine plus tôt cette année. Ils présentaient les technologies de gravure avancées de Samsung aux clients et partenaires du monde entier. Après le Samsung Foundry Forum en Corée en juillet, il est prévu que d’autres lieux comme le Japon et la région EMEA reçoivent en septembre et octobre des partenaires et clients locaux.

www.samsungfoundry.com

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