{"id":464532,"date":"2024-11-04T11:50:54","date_gmt":"2024-11-04T10:50:54","guid":{"rendered":"https:\/\/www.ecinews.fr\/?p=464532"},"modified":"2024-11-04T11:52:47","modified_gmt":"2024-11-04T10:52:47","slug":"lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/","title":{"rendered":"L’\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV"},"content":{"rendered":"

Le d\u00e9ploiement de la lithographie dans l’ultraviolet extr\u00eame (EUV) pourrait \u00eatre frein\u00e9 par les besoins croissants en \u00e9nergie de cette technologie.<\/p>\n

L’EUV est une technologie cl\u00e9 pour les derniers proc\u00e9d\u00e9s de fabrication de puces, et l’Europe a \u00e9t\u00e9 au c\u0153ur de ce projet gr\u00e2ce \u00e0 ASML aux Pays-Bas et \u00e0 Imec<\/a> en Belgique.<\/p>\n

La technologie EUV \u00e0 grande ouverture num\u00e9rique (NA) de la prochaine g\u00e9n\u00e9ration est complexe et co\u00fbteuse \u00e0 d\u00e9velopper. Le gouvernement am\u00e9ricain a annonc\u00e9 cette semaine la cr\u00e9ation d’un centre d’un milliard de dollars \u00e0 Albany, dans l’\u00c9tat de New York, pour poursuivre le d\u00e9veloppement de cette technologie<\/a>.\u00a0<\/p>\n

Toutefois, le d\u00e9veloppement de cette technologie a \u00e9t\u00e9 long, stimul\u00e9 par l’acquisition de Cymer par ASML aux \u00c9tats-Unis en 2013. Des retards en 2010<\/a>, des d\u00e9bats en 2015 autour de la<\/a> technologie 7nm<\/a> et un incendie en 2018<\/a> ont mis en lumi\u00e8re les d\u00e9fis \u00e0 relever.<\/p>\n

Intel<\/a> d\u00e9clare avoir achev\u00e9 le d\u00e9ploiement de l’EUV pour la production dans le cadre de l’extension de sa capacit\u00e9 et de la succession de quatre n\u0153uds de process en cinq ans. Elle a install\u00e9 l’EUV \u00e0 haute r\u00e9solution dans son usine de d\u00e9veloppement de l’Oregon.<\/p>\n

\u00ab\u00a0Gr\u00e2ce \u00e0 notre strat\u00e9gie \u00ab\u00a0shell-ahead\u00a0\u00bb, nous sommes d\u00e9sormais bien positionn\u00e9s pour r\u00e9agir rapidement \u00e0 la demande du march\u00e9\u00a0\u00bb, a d\u00e9clar\u00e9 cette semaine Pat Gelsigner, PDG d’Intel. \u00ab\u00a0Avec notre transition vers l’EUV maintenant achev\u00e9e et le lancement d’Intel 18A \u00e0 l’horizon, nous avons une cadence plus normale de d\u00e9veloppement de n\u0153uds \u00e0 Intel 14A et au-del\u00e0. En outre, nos \u00e9quipes se concentrent de mani\u00e8re maniaque sur l’am\u00e9lioration de la productivit\u00e9 de l’usine, ce qui nous permet de produire plus avec moins, au fil du temps.\u00a0\u00bb<\/p>\n

Il s’agit notamment de la technologie EUV install\u00e9e dans son usine de Leixlip, en Irlande, en 2022<\/a>. Cependant, l’\u00e9quipement n\u00e9cessite beaucoup plus d’espace dans les fabs, en particulier la hauteur, et tend donc \u00e0 \u00eatre utilis\u00e9 dans de nouveaux b\u00e2timents.<\/p>\n

Un autre syst\u00e8me EUV \u00e0 haute NA, dont le co\u00fbt est estim\u00e9 \u00e0 350 millions de dollars, est en cours d’installation chez TSMC \u00e0 Ta\u00efwan, qui s’int\u00e9resse \u00e9galement \u00e0 la technologie des process \u00e0 1,8 et 1,6 nm.<\/p>\n

Les outils NA EUV n\u00e9cessitent jusqu’\u00e0 1 400 kilowatts par outil, ce qui en fait les machines les plus gourmandes en \u00e9nergie dans une usine de semi-conducteurs. \u00c0 mesure que le nombre de fabs \u00e9quip\u00e9es de la technologie EUV augmente, la demande d’\u00e9lectricit\u00e9 augmente, ce qui pose un d\u00e9fi en mati\u00e8re d’infrastructure \u00e9lectrique et de d\u00e9veloppement durable.<\/p>\n

TechInsights recense actuellement 31 fabs qui utilisent la lithographie EUV et 28 autres qui mettront en \u0153uvre la lithographie EUV d’ici \u00e0 la fin de l’ann\u00e9e 2030. Le nombre de syst\u00e8mes de lithographie EUV en service aura donc plus que doubl\u00e9, ce qui repr\u00e9sente plus de 6 100 gigawatts par an pour alimenter les seuls syst\u00e8mes EUV.<\/p>\n

La technologie a permis des g\u00e9om\u00e9tries plus petites dans le processus CMOS pour des puces plus petites et plus puissantes, essentielles pour l’intelligence artificielle (IA), l’informatique de haute performance et la conduite autonome. Toutefois, cela a un co\u00fbt important : la consommation d’\u00e9nergie, indique le rapport de TechInsights.<\/p>\n

D’ici \u00e0 2030, la consommation annuelle d’\u00e9lectricit\u00e9 estim\u00e9e pour les seuls outils EUV pourrait d\u00e9passer 54 000 gigawatts, soit plus de 19 fois la quantit\u00e9 utilis\u00e9e par le Strip de Las Vegas en un an. Il est donc urgent de trouver des solutions \u00e9nerg\u00e9tiques durables pour r\u00e9pondre \u00e0 la demande croissante de l’industrie des semi-conducteurs.<\/p>\n

Alors que plus de 500 entreprises fabriquent des semi-conducteurs, seule une poign\u00e9e d’entre elles ont les moyens, les besoins et les comp\u00e9tences n\u00e9cessaires pour soutenir les syst\u00e8mes de lithographie EUV, ce qui a des r\u00e9percussions sur les r\u00e9seaux \u00e9nerg\u00e9tiques r\u00e9gionaux sp\u00e9cifiques. Les sites o\u00f9 les fabs utilisent des syst\u00e8mes EUV pour la fabrication en gros volumes sont TSMC et Micron \u00e0 Ta\u00efwan, Samsung et SK Hynix en Cor\u00e9e, Micron au Japon, Intel et TSMC en Arizona, Intel en Ohio et Orgeon, Micron en Idaho et New York ainsi que Samsung au Texas.<\/p>\n

Alors que les outils EUV sont les composants les plus \u00e9nergivores des fabs de semi-conducteurs, ils ne repr\u00e9sentent qu’environ 11 % de la consommation totale d’\u00e9lectricit\u00e9. D’autres outils de traitement, l’\u00e9quipement des installations et les syst\u00e8mes de chauffage, de ventilation et de climatisation contribuent \u00e9galement de mani\u00e8re significative \u00e0 l’empreinte \u00e9nerg\u00e9tique globale.<\/p>\n

Pour assurer un avenir durable, l’industrie devra investir dans des technologies \u00e0 haut rendement \u00e9nerg\u00e9tique, explorer les sources d’\u00e9nergie renouvelables et collaborer avec les d\u00e9cideurs politiques pour relever les d\u00e9fis des infrastructures \u00e9lectriques, explique Lara Chamness, analyste principale en mati\u00e8re de d\u00e9veloppement durable chez TechInsights.<\/p>\n

Alors que le financement du centre de R&D EUV est ax\u00e9 sur la loi CHIPS pour la cha\u00eene d’approvisionnement souveraine, il doit se concentrer sur la consommation d’\u00e9nergie et la durabilit\u00e9 de la technologie.<\/p>\n

Vous trouverez plus de d\u00e9tails dans le rapport de<\/a> TechInsights.<\/p>\n

 <\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Le d\u00e9ploiement de la lithographie dans l’ultraviolet extr\u00eame (EUV) pourrait \u00eatre frein\u00e9 par les besoins croissants en \u00e9nergie de cette technologie. L’EUV est une technologie cl\u00e9 pour les derniers proc\u00e9d\u00e9s de fabrication de puces, et l’Europe a \u00e9t\u00e9 au c\u0153ur de ce projet gr\u00e2ce \u00e0 ASML aux Pays-Bas et \u00e0 Imec en Belgique. La technologie […]<\/p>\n","protected":false},"author":40,"featured_media":464504,"comment_status":"closed","ping_status":"closed","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"footnotes":""},"categories":[887,883],"tags":[8092,8015],"domains":[47],"ppma_author":[3640,6199],"class_list":["post-464532","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-applications","category-technologies","tag-euvna","tag-lithographie-euv","domains-electronique-eci"],"acf":[],"yoast_head":"L'\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV ...<\/title>\n<meta name=\"description\" content=\"Le d\u00e9ploiement de la lithographie dans l'ultraviolet extr\u00eame (EUV) pourrait \u00eatre frein\u00e9 par ses besoins croissants en \u00e9nergie.\" \/>\n<meta name=\"robots\" content=\"index, follow, max-snippet:-1, max-image-preview:large, max-video-preview:-1\" \/>\n<link rel=\"canonical\" href=\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/464532\/\" \/>\n<meta property=\"og:locale\" content=\"fr_FR\" \/>\n<meta property=\"og:type\" content=\"article\" \/>\n<meta property=\"og:title\" content=\"L'\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV\" \/>\n<meta property=\"og:description\" content=\"Le d\u00e9ploiement de la lithographie dans l'ultraviolet extr\u00eame (EUV) pourrait \u00eatre frein\u00e9 par ses besoins croissants en \u00e9nergie.\" \/>\n<meta property=\"og:url\" content=\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/464532\/\" \/>\n<meta property=\"og:site_name\" content=\"EENewsEurope\" \/>\n<meta property=\"article:published_time\" content=\"2024-11-04T10:50:54+00:00\" \/>\n<meta property=\"article:modified_time\" content=\"2024-11-04T10:52:47+00:00\" \/>\n<meta property=\"og:image\" content=\"https:\/\/www.ecinews.fr\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/newsroom-intel-ireland-fab34-cleanroom-7-scaled.jpg\" \/>\n\t<meta property=\"og:image:width\" content=\"1080\" \/>\n\t<meta property=\"og:image:height\" content=\"608\" \/>\n\t<meta property=\"og:image:type\" content=\"image\/jpeg\" \/>\n<meta name=\"author\" content=\"Nick Flaherty, A Delapalisse\" \/>\n<meta name=\"twitter:card\" content=\"summary_large_image\" \/>\n<meta name=\"twitter:label1\" content=\"Written by\" \/>\n\t<meta name=\"twitter:data1\" content=\"A Delapalisse\" \/>\n\t<meta name=\"twitter:label2\" content=\"Est. reading time\" \/>\n\t<meta name=\"twitter:data2\" content=\"4 minutes\" \/>\n<script type=\"application\/ld+json\" class=\"yoast-schema-graph\">{\"@context\":\"https:\/\/schema.org\",\"@graph\":[{\"@type\":\"Article\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/#article\",\"isPartOf\":{\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/\"},\"author\":{\"name\":\"A Delapalisse\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/person\/4b3db5ba5c953c5fddeb226df86d8635\"},\"headline\":\"L’\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV\",\"datePublished\":\"2024-11-04T10:50:54+00:00\",\"dateModified\":\"2024-11-04T10:52:47+00:00\",\"mainEntityOfPage\":{\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/\"},\"wordCount\":895,\"publisher\":{\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#organization\"},\"keywords\":[\"EUVNA\",\"Lithographie EUV\"],\"articleSection\":[\"Applications\",\"Technologies\"],\"inLanguage\":\"fr-FR\"},{\"@type\":\"WebPage\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/\",\"url\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/\",\"name\":\"L'\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV -\",\"isPartOf\":{\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#website\"},\"datePublished\":\"2024-11-04T10:50:54+00:00\",\"dateModified\":\"2024-11-04T10:52:47+00:00\",\"description\":\"Le d\u00e9ploiement de la lithographie dans l'ultraviolet extr\u00eame (EUV) pourrait \u00eatre frein\u00e9 par ses besoins croissants en \u00e9nergie.\",\"breadcrumb\":{\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/#breadcrumb\"},\"inLanguage\":\"fr-FR\",\"potentialAction\":[{\"@type\":\"ReadAction\",\"target\":[\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/\"]}]},{\"@type\":\"BreadcrumbList\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/#breadcrumb\",\"itemListElement\":[{\"@type\":\"ListItem\",\"position\":1,\"name\":\"Home\",\"item\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/\"},{\"@type\":\"ListItem\",\"position\":2,\"name\":\"L’\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV\"}]},{\"@type\":\"WebSite\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#website\",\"url\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/\",\"name\":\"EENewsEurope\",\"description\":\"Just another WordPress site\",\"publisher\":{\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#organization\"},\"potentialAction\":[{\"@type\":\"SearchAction\",\"target\":{\"@type\":\"EntryPoint\",\"urlTemplate\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/?s={search_term_string}\"},\"query-input\":\"required name=search_term_string\"}],\"inLanguage\":\"fr-FR\"},{\"@type\":\"Organization\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#organization\",\"name\":\"EENewsEurope\",\"url\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/\",\"logo\":{\"@type\":\"ImageObject\",\"inLanguage\":\"fr-FR\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/logo\/image\/\",\"url\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/wp-content\/uploads\/2022\/02\/logo-1.jpg\",\"contentUrl\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/wp-content\/uploads\/2022\/02\/logo-1.jpg\",\"width\":283,\"height\":113,\"caption\":\"EENewsEurope\"},\"image\":{\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/logo\/image\/\"}},{\"@type\":\"Person\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/person\/4b3db5ba5c953c5fddeb226df86d8635\",\"name\":\"A Delapalisse\",\"image\":{\"@type\":\"ImageObject\",\"inLanguage\":\"fr-FR\",\"@id\":\"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/person\/image\/09af0e1236b95ff53924b8dfe5af278e\",\"url\":\"https:\/\/secure.gravatar.com\/avatar\/010f811c0933b47aea7e9204117b17c6?s=96&d=mm&r=g\",\"contentUrl\":\"https:\/\/secure.gravatar.com\/avatar\/010f811c0933b47aea7e9204117b17c6?s=96&d=mm&r=g\",\"caption\":\"A Delapalisse\"}}]}<\/script>","yoast_head_json":{"title":"L'\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV ...","description":"Le d\u00e9ploiement de la lithographie dans l'ultraviolet extr\u00eame (EUV) pourrait \u00eatre frein\u00e9 par ses besoins croissants en \u00e9nergie.","robots":{"index":"index","follow":"follow","max-snippet":"max-snippet:-1","max-image-preview":"max-image-preview:large","max-video-preview":"max-video-preview:-1"},"canonical":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/464532\/","og_locale":"fr_FR","og_type":"article","og_title":"L'\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV","og_description":"Le d\u00e9ploiement de la lithographie dans l'ultraviolet extr\u00eame (EUV) pourrait \u00eatre frein\u00e9 par ses besoins croissants en \u00e9nergie.","og_url":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/464532\/","og_site_name":"EENewsEurope","article_published_time":"2024-11-04T10:50:54+00:00","article_modified_time":"2024-11-04T10:52:47+00:00","og_image":[{"width":1080,"height":608,"url":"https:\/\/www.ecinews.fr\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/newsroom-intel-ireland-fab34-cleanroom-7-scaled.jpg","type":"image\/jpeg"}],"author":"Nick Flaherty, A Delapalisse","twitter_card":"summary_large_image","twitter_misc":{"Written by":"A Delapalisse","Est. reading time":"4 minutes"},"schema":{"@context":"https:\/\/schema.org","@graph":[{"@type":"Article","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/#article","isPartOf":{"@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/"},"author":{"name":"A Delapalisse","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/person\/4b3db5ba5c953c5fddeb226df86d8635"},"headline":"L’\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV","datePublished":"2024-11-04T10:50:54+00:00","dateModified":"2024-11-04T10:52:47+00:00","mainEntityOfPage":{"@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/"},"wordCount":895,"publisher":{"@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#organization"},"keywords":["EUVNA","Lithographie EUV"],"articleSection":["Applications","Technologies"],"inLanguage":"fr-FR"},{"@type":"WebPage","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/","url":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/","name":"L'\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV -","isPartOf":{"@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#website"},"datePublished":"2024-11-04T10:50:54+00:00","dateModified":"2024-11-04T10:52:47+00:00","description":"Le d\u00e9ploiement de la lithographie dans l'ultraviolet extr\u00eame (EUV) pourrait \u00eatre frein\u00e9 par ses besoins croissants en \u00e9nergie.","breadcrumb":{"@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/#breadcrumb"},"inLanguage":"fr-FR","potentialAction":[{"@type":"ReadAction","target":["https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/"]}]},{"@type":"BreadcrumbList","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/lenergie-absorbee-est-le-prochain-defi-de-la-litho-euv\/#breadcrumb","itemListElement":[{"@type":"ListItem","position":1,"name":"Home","item":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/"},{"@type":"ListItem","position":2,"name":"L’\u00e9nergie absorb\u00e9e est le prochain d\u00e9fi de la litho EUV"}]},{"@type":"WebSite","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#website","url":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/","name":"EENewsEurope","description":"Just another WordPress site","publisher":{"@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#organization"},"potentialAction":[{"@type":"SearchAction","target":{"@type":"EntryPoint","urlTemplate":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/?s={search_term_string}"},"query-input":"required name=search_term_string"}],"inLanguage":"fr-FR"},{"@type":"Organization","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#organization","name":"EENewsEurope","url":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/","logo":{"@type":"ImageObject","inLanguage":"fr-FR","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/logo\/image\/","url":"https:\/\/www.ecinews.fr\/wp-content\/uploads\/2022\/02\/logo-1.jpg","contentUrl":"https:\/\/www.ecinews.fr\/wp-content\/uploads\/2022\/02\/logo-1.jpg","width":283,"height":113,"caption":"EENewsEurope"},"image":{"@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/logo\/image\/"}},{"@type":"Person","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/person\/4b3db5ba5c953c5fddeb226df86d8635","name":"A Delapalisse","image":{"@type":"ImageObject","inLanguage":"fr-FR","@id":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/#\/schema\/person\/image\/09af0e1236b95ff53924b8dfe5af278e","url":"https:\/\/secure.gravatar.com\/avatar\/010f811c0933b47aea7e9204117b17c6?s=96&d=mm&r=g","contentUrl":"https:\/\/secure.gravatar.com\/avatar\/010f811c0933b47aea7e9204117b17c6?s=96&d=mm&r=g","caption":"A Delapalisse"}}]}},"authors":[{"term_id":3640,"user_id":0,"is_guest":1,"slug":"nick-flaherty","display_name":"Nick Flaherty","avatar_url":"https:\/\/secure.gravatar.com\/avatar\/?s=96&d=mm&r=g","0":null,"1":"","2":"","3":"","4":"","5":"","6":"","7":"","8":""},{"term_id":6199,"user_id":40,"is_guest":0,"slug":"andre-rousselotemisys-com","display_name":"A Delapalisse","avatar_url":"https:\/\/secure.gravatar.com\/avatar\/010f811c0933b47aea7e9204117b17c6?s=96&d=mm&r=g","0":null,"1":"","2":"","3":"","4":"","5":"","6":"","7":"","8":""}],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/464532"}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/users\/40"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=464532"}],"version-history":[{"count":0,"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/464532\/revisions"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/media\/464504"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=464532"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=464532"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=464532"},{"taxonomy":"domains","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/domains?post=464532"},{"taxonomy":"author","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/ppma_author?post=464532"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}