Le gouvernement am\u00e9ricain finance un centre de recherche d’un milliard de dollars pour la technologie de traitement EUV de la prochaine g\u00e9n\u00e9ration, s’attaquant ainsi au leader technologique n\u00e9erlandais ASML.<\/p>\n
L’acc\u00e9l\u00e9rateur EUV, d’une valeur de 825 millions de dollars, sera install\u00e9 dans le complexe Albany NanoTech en tant que premi\u00e8re installation phare de R&D de CHIPS for America et b\u00e9n\u00e9ficiera d’un financement suppl\u00e9mentaire de la part des utilisateurs. L’un des principaux acteurs devrait \u00eatre la soci\u00e9t\u00e9 am\u00e9ricaine Applied Materials, en concurrence directe avec ASML<\/a>, qui a ouvert<\/a> en juin un laboratoire similaire avec l’imec en Belgique.<\/a><\/p>\n L’acc\u00e9l\u00e9rateur EUV se concentrera sur le d\u00e9veloppement d’une technologie EUV \u00e0 grande ouverture num\u00e9rique de pointe et sur la recherche et le d\u00e9veloppement qui en d\u00e9pendent. Selon les \u00c9tats-Unis, la lithographie EUV est devenue une technologie essentielle pour permettre la production en grande quantit\u00e9 de transistors au-del\u00e0 de 7 nm, mais les grands fabricants de puces, tels que TSMC, ne sont pas aussi convaincus.<\/p>\n ASML has started shipping second high-NA EUV litho machine<\/a><\/p><\/blockquote>\n