{"id":446527,"date":"2024-03-20T09:48:49","date_gmt":"2024-03-20T08:48:49","guid":{"rendered":"https:\/\/www.eenewseurope.com\/?p=446527"},"modified":"2024-03-20T09:48:49","modified_gmt":"2024-03-20T08:48:49","slug":"tsmc-et-synopsys-utilisent-culitho-de-nvidia-avec-ia-pour-la-production","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/tsmc-et-synopsys-utilisent-culitho-de-nvidia-avec-ia-pour-la-production\/","title":{"rendered":"TSMC et Synopsys utilisent cuLitho de Nvidia avec IA pour la production"},"content":{"rendered":"<h2>Le fondeur TSMC et le fournisseur d&rsquo;outils EDA Synopsys passent \u00e0 la production avec la plateforme de lithographie informatique de Nvidia afin d&rsquo;acc\u00e9l\u00e9rer le processus d&rsquo;un facteur pouvant aller jusqu&rsquo;\u00e0 60.<\/h2>\n<p>Nvidia a annonc\u00e9 son outil cuLitho lors de sa conf\u00e9rence sur la technologie GPU en 2023, en pr\u00e9cisant que TSMC et Synopsys s&rsquo;associeraient pour la technologie. La lithographie informatique est l&rsquo;utilisation d&rsquo;un pr\u00e9traitement math\u00e9matique d&rsquo;un fichier de masque photographique pour corriger les aberrations et les effets de la lithographie optique.<\/p>\n<p>Cette ann\u00e9e, Nvidia a introduit des algorithmes d&rsquo;IA g\u00e9n\u00e9rative qui am\u00e9liorent les performances de cuLitho et a d\u00e9clar\u00e9 que TSMC et Synopsys ont int\u00e9gr\u00e9 cuLitho dans leurs logiciels et leurs processus de fabrication afin d&rsquo;acc\u00e9l\u00e9rer la fabrication des puces.<\/p>\n<p>La lithographie informatique est la charge de travail la plus gourmande en calcul dans le processus de fabrication des semiconducteurs, consommant des dizaines de milliards d&rsquo;heures par an sur les processeurs. La cr\u00e9ation d&rsquo;un jeu de masques typique pour une puce peut n\u00e9cessiter 30 millions d&rsquo;heures ou plus de temps de calcul de l&rsquo;unit\u00e9 centrale. Gr\u00e2ce \u00e0 l&rsquo;acc\u00e9l\u00e9ration du calcul, 350 syst\u00e8mes NVIDIA H100 peuvent d\u00e9sormais remplacer 40 000 syst\u00e8mes CPU, ce qui acc\u00e9l\u00e8re le temps de production tout en r\u00e9duisant les co\u00fbts, l&rsquo;espace et la consommation d&rsquo;\u00e9nergie.<\/p>\n<h4>TSMC aime<\/h4>\n<p>\u00ab\u00a0Notre travail avec Nvidia pour int\u00e9grer le calcul acc\u00e9l\u00e9r\u00e9 par le GPU dans le flux de travail de TSMC a permis de faire de grands bonds en termes de performances, d&rsquo;am\u00e9liorer consid\u00e9rablement le d\u00e9bit, de raccourcir le temps de cycle et de r\u00e9duire les besoins en \u00e9nergie\u00a0\u00bb, a d\u00e9clar\u00e9 C.C. Wei, PDG de TSMC, dans un communiqu\u00e9 publi\u00e9 par Nvidia. \u00ab\u00a0Nous mettons Nvidia cuLitho en production chez TSMC, en tirant parti de cette technologie de lithographie computationnelle pour mettre en \u0153uvre un \u00e9l\u00e9ment essentiel de la mise \u00e0 l&rsquo;\u00e9chelle des semiconducteurs\u00a0\u00bb.<\/p>\n<p>Depuis son lancement l&rsquo;ann\u00e9e derni\u00e8re, cuLitho a permis \u00e0 TSMC d&rsquo;ouvrir de nouvelles perspectives en mati\u00e8re de technologies de mod\u00e9lisation innovantes. En testant cuLitho sur des flux de travail partag\u00e9s, les entreprises ont r\u00e9alis\u00e9 conjointement une acc\u00e9l\u00e9ration de 45 fois des flux curvilignes et une am\u00e9lioration de pr\u00e8s de 60 fois des flux plus traditionnels de style Manhattan, en ligne droite et limit\u00e9s par des grilles.<\/p>\n<p>\u00ab\u00a0Avec le passage aux n\u0153uds avanc\u00e9s, la lithographie computationnelle a consid\u00e9rablement augment\u00e9 en complexit\u00e9 et en co\u00fbt de calcul. Notre collaboration avec TSMC et Nvidia est essentielle pour permettre une mise \u00e0 l&rsquo;\u00e9chelle au niveau de l&rsquo;angstr\u00f6m alors que nous sommes \u00e0 la pointe des technologies avanc\u00e9es pour r\u00e9duire les d\u00e9lais d&rsquo;ex\u00e9cution par des ordres de grandeur gr\u00e2ce \u00e0 la puissance du calcul acc\u00e9l\u00e9r\u00e9\u00a0\u00bb, a d\u00e9clar\u00e9 Sassine Ghazi, PDG de Synopsys, dans le m\u00eame communiqu\u00e9.<\/p>\n<p>La correction optique de proximit\u00e9 (OPC) de Synopsys Proteus fonctionnant sur le logiciel Nvidia cuLitho et le mat\u00e9riel Nvidia AI acc\u00e9l\u00e8re les charges de travail de calcul par rapport aux m\u00e9thodes actuelles bas\u00e9es sur le CPU.<\/p>\n<p>Le flux de travail g\u00e9n\u00e9ratif de l&rsquo;IA permet de multiplier par deux la vitesse des processus acc\u00e9l\u00e9r\u00e9s gr\u00e2ce \u00e0 cuLitho. L&rsquo;application de l&rsquo;IA g\u00e9n\u00e9rative permet de cr\u00e9er un masque inverse presque parfait ou une solution inverse pour tenir compte de la diffraction de la lumi\u00e8re. Le masque final est ensuite d\u00e9riv\u00e9 par des m\u00e9thodes traditionnelles et physiquement rigoureuses, ce qui acc\u00e9l\u00e8re le processus global de correction de la proximit\u00e9 optique (OPC) par un facteur de deux.<\/p>\n<h4>Liens et articles connexes :<\/h4>\n<p><a href=\"http:\/\/www.nvidia.com\">www.nvidia.com<\/a><\/p>\n<h4>Articles de presse :<\/h4>\n<p><a href=\"https:\/\/www.eenewseurope.com\/en\/asml-tsmc-synopsys-join-nvidia-for-computation-lithography\/\">ASML, TSMC et Synopsys rejoignent Nvidia pour la lithographie informatique<\/a><\/p>\n<p><a href=\"https:\/\/www.eenewseurope.com\/en\/nvidia-boss-pitches-generative-ai-for-chip-manufacturing\/\">Le patron de Nvidia pr\u00e9sente l&rsquo;IA g\u00e9n\u00e9rative pour la fabrication de puces<\/a><\/p>\n<p><a href=\"https:\/\/www.eenewseurope.com\/en\/asml-wins-punitive-damages-in-chinese-ip-theft-case\/\">ASML obtient des dommages-int\u00e9r\u00eats punitifs dans une affaire de vol de propri\u00e9t\u00e9 intellectuelle en Chine<\/a><\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Le fondeur TSMC et le fournisseur d&rsquo;outils EDA Synopsys passent \u00e0 la production avec la plateforme de lithographie informatique de Nvidia afin d&rsquo;acc\u00e9l\u00e9rer le processus d&rsquo;un facteur pouvant aller jusqu&rsquo;\u00e0 60. 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