{"id":432983,"date":"2023-09-26T08:25:27","date_gmt":"2023-09-26T06:25:27","guid":{"rendered":"https:\/\/www.eenewseurope.com\/?p=432983"},"modified":"2023-09-26T08:27:57","modified_gmt":"2023-09-26T06:27:57","slug":"la-chine-parie-sur-le-synchrotron-pour-la-lithographie-euv","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/la-chine-parie-sur-le-synchrotron-pour-la-lithographie-euv\/","title":{"rendered":"La Chine parie sur le synchrotron pour la lithographie EUV"},"content":{"rendered":"<h2>Des chercheurs chinois explorent une vieille id\u00e9e, l&rsquo;utilisation d&rsquo;un acc\u00e9l\u00e9rateur d&rsquo;\u00e9lectrons comme source de lumi\u00e8re pour la lithographie.<\/h2>\n<p>Toutefois, l&rsquo;argument selon lequel un tel d\u00e9veloppement pourrait \u00eatre utilis\u00e9 pour contourner les contr\u00f4les am\u00e9ricains \u00e0 l&rsquo;exportation sur les \u00e9quipements de lithographie \u00e0 ultraviolets extr\u00eames (EUV) n&rsquo;est pas fond\u00e9. Un synchrotron \u00e9lectronique ne constitue qu&rsquo;une source de lumi\u00e8re alternative pour la lithographie et les complexit\u00e9s des r\u00e9sines, du masquage et de la focalisation de la lumi\u00e8re pour produire des d\u00e9tails de l&rsquo;ordre du nanom\u00e8tre &#8211; jusqu&rsquo;\u00e0 pr\u00e9sent ma\u00eetris\u00e9es uniquement par ASML Holding NV &#8211; restent entiers.<\/p>\n<p>En outre, il faudra de nombreuses ann\u00e9es de travail pour produire un syst\u00e8me fiable pour la production de masse de puces \u00e0 des n\u0153uds nanom\u00e9triques \u00e0 un chiffre ( en dessous de 10 nm).<\/p>\n<p>En outre, les m\u00eames inconv\u00e9nients qui ont fait \u00e9chouer le synchrotron de lithographie \u00e0 rayons X d&rsquo;IBM dans les ann\u00e9es 1990 subsistent. En effet, les sources optiques bas\u00e9es sur le synchrotron sont \u00e9normes &#8211; plus de 20 m\u00e8tres de diam\u00e8tre &#8211; et extr\u00eamement co\u00fbteuses.<\/p>\n<p>Ces syst\u00e8mes sont g\u00e9n\u00e9ralement bas\u00e9s sur des \u00e9lectrons tournant autour d&rsquo;un anneau de stockage, car les \u00e9lectrons ont une masse moindre. Le rayonnement synchrotron est produit par l&rsquo;acc\u00e9l\u00e9ration d&rsquo;\u00e9lectrons \u00e0 des vitesses relativistes.<\/p>\n<h4>Un grand anneau<\/h4>\n<p>Cependant, plus l&rsquo;anneau est petit, plus il faut d\u00e9penser d&rsquo;\u00e9nergie pour acc\u00e9l\u00e9rer les \u00e9lectrons et les faire tourner. Ces syst\u00e8mes ne sont viables que s&rsquo;ils disposent de plusieurs unit\u00e9s de lithographie dispos\u00e9es tangentiellement pour utiliser la lumi\u00e8re\/les rayons X g\u00e9n\u00e9r\u00e9s par les \u00e9lectrons. Un tel anneau pourrait comporter un grand nombre de machines de lithographie plac\u00e9es tangentiellement pour utiliser la source optique unique.<\/p>\n<p>Des chercheurs de l&rsquo;universit\u00e9 de Tsinghua utilisent un raffinement appel\u00e9 steady-state microbunching (SSMB) pour tenter d&rsquo;am\u00e9liorer les sources optiques du synchrotron. Cette technique est porteuse d&rsquo;espoir &#8211; \u00e0 long terme &#8211; car les sources de lumi\u00e8re produites par plasma laser (LPP) ont du mal \u00e0 produire suffisamment d&rsquo;\u00e9nergie pour atteindre la capacit\u00e9 de production des plaquettes de silicium.<\/p>\n<p>En 2021, un groupe de l&rsquo;universit\u00e9 de Tsinghua, du Helmholtz-Zentrum Berlin et du Physikalisch-Technische Bundesanstalt a test\u00e9 exp\u00e9rimentalement le microbunching en r\u00e9gime permanent au synchrotron Metrology Light Source \u00e0 Berlin.<\/p>\n<p>\u00ab\u00a0Une source EUV de haute puissance est d&rsquo;une importance cruciale pour la fabrication en grande s\u00e9rie utilisant la lithographie EUV\u00a0\u00bb, a d\u00e9clar\u00e9 le professeur Chuanxiang Tang, du d\u00e9partement d&rsquo;ing\u00e9nierie physique de l&rsquo;universit\u00e9 de Tsinghua, dans un communiqu\u00e9 publi\u00e9 \u00e0 l&rsquo;\u00e9poque. L&rsquo;un des principaux probl\u00e8mes de l&rsquo;EUVL est que le syst\u00e8me optique est r\u00e9fl\u00e9chissant et que la perte de puissance \u00e0 chacune des 11 r\u00e9flexions est d&rsquo;environ 30 %, a-t-il ajout\u00e9. \u00c0 l&rsquo;\u00e9poque ( en 2021), il avait d\u00e9clar\u00e9 qu&rsquo;il esp\u00e9rait construire un synchrotron SSMB \u00e0 P\u00e9kin dans les cinq ou six prochaines ann\u00e9es.<\/p>\n<p>Selon le <em>South China Morning Post<\/em>, des chercheurs de l&rsquo;universit\u00e9 Tsinghua sont actuellement en discussion avec les autorit\u00e9s de la nouvelle zone de Xiongan pour trouver un site o\u00f9 construire un synchrotron d&rsquo;une circonf\u00e9rence comprise entre 100 et 150 m\u00e8tres. Cela correspondrait \u00e0 un diam\u00e8tre compris entre 16 et 25 m\u00e8tres. Le faisceau d&rsquo;\u00e9lectrons sera utilis\u00e9 pour produire de la lumi\u00e8re \u00e0 des fins de lithographie et de recherche scientifique, selon le <em>SCMP<\/em>.<\/p>\n<p>Le fait qu&rsquo;un tel syst\u00e8me soit utilis\u00e9 pour la lithographie ET la recherche scientifique indique qu&rsquo;il s&rsquo;agit d&rsquo;une machine de recherche universitaire plut\u00f4t que d&rsquo;une unit\u00e9 de fabrication commerciale.<\/p>\n<p>La recherche de l&rsquo;universit\u00e9 de Tsinghua peut \u00e9galement \u00eatre rapproch\u00e9e d&rsquo;un article publi\u00e9 dans Nature Scientific Reports en f\u00e9vrier 2022 (voir <em> <a href=\"https:\/\/www.nature.com\/articles\/s41598-022-07323-z\">Une source de rayonnement synchrotron de l&rsquo;ordre du kilowatt pour la lithographie EUV<\/a> <\/em>)<\/p>\n<h4>Expertise \u00e0 Shanghai<\/h4>\n<p>Cet article fait \u00e9tat de l&rsquo;utilisation d&rsquo;un anneau d&rsquo;amortissement compact d&rsquo;une circonf\u00e9rence d&rsquo;environ 160 m\u00e8tres pour produire un rayonnement EUV coh\u00e9rent d&rsquo;une puissance de l&rsquo;ordre du kilowatt \u00e0 une longueur d&rsquo;onde de 13,5 nm. Il utilise la m\u00e9thode dite du micro-bunching pour produire une puissance coh\u00e9rente avec une puissance moyenne d&rsquo;environ 2,5 kW. Cependant, les auteurs de ce document sont principalement issus du Shanghai Advanced Research Institute, Chinese Academy of Sciences, Shanghai.<\/p>\n<p>Le Shanghai Synchrotron Radiation Facility (SSRF) existe d\u00e9j\u00e0 et dispose de 15 lignes de faisceaux dans la premi\u00e8re phase du projet, et de 26 lignes de faisceaux apr\u00e8s l&rsquo;ach\u00e8vement de la deuxi\u00e8me phase.<\/p>\n<p>Le document de recherche souligne quelques avantages du synchrotron en tant que source optique. La premi\u00e8re est que, contrairement aux sources de plasma produites par laser (LPP), elles ne produisent pas de d\u00e9bris contaminant l&rsquo;optique et n\u00e9cessitant un temps d&rsquo;arr\u00eat pour nettoyer le syst\u00e8me et remplacer la cible. Les sources optiques bas\u00e9es sur le synchrotron permettent d&rsquo;accorder facilement la longueur d&rsquo;onde optique. Cela laisse entrevoir la possibilit\u00e9 d&rsquo;accorder une source de rayonnement synchrotron \u00e0 des longueurs d&rsquo;onde inf\u00e9rieures \u00e0 13,5 nm sans que cela ne repr\u00e9sente un d\u00e9fi technique majeur.<\/p>\n<h4>Liens et articles connexes :<\/h4>\n<p><a href=\"https:\/\/www.scmp.com\/news\/china\/science\/article\/3235419\/china-plans-build-giant-chip-factory-driven-particle-accelerator?module=lead_hero_story&amp;pgtype=homepage\">La Chine envisage de construire une usine g\u00e9ante de fabrication de puces \u00e9lectroniques aliment\u00e9e par un acc\u00e9l\u00e9rateur de particules<\/a><\/p>\n<p><em><a href=\"https:\/\/www.nature.com\/articles\/s41598-022-07323-z\">Une source de rayonnement de niveau kilowatt bas\u00e9e sur le synchrotron pour la lithographie EUV<\/a><\/em><\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Des chercheurs chinois explorent une vieille id\u00e9e, l&rsquo;utilisation d&rsquo;un acc\u00e9l\u00e9rateur d&rsquo;\u00e9lectrons comme source de lumi\u00e8re pour la lithographie. 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