Suite au succ\u00e8s de la production en s\u00e9rie du premier processeur d’application mobile (AP) FinFET du march\u00e9 en janvier 2015, Samsung consolide son leadership en proposant une technologie de gravure d’avant-garde sur le march\u00e9 de masse avec cette toute derni\u00e8re offre.<\/p>\n
\u00ab\u00a0La premi\u00e8re production en s\u00e9rie de l’industrie de la technologie FinFET 10 nm d\u00e9montre notre sup\u00e9riorit\u00e9 en technologie avanc\u00e9e de gravure,\u00a0\u00bb a affirm\u00e9 Jong Shik Yoon, vice-pr\u00e9sident directeur, chef de l’activit\u00e9 fonderie chez Samsung Electronics. \u00ab\u00a0Gr\u00e2ce \u00e0 nos efforts en mati\u00e8re de technologies de r\u00e9duction de gravure, nos clients vont b\u00e9n\u00e9ficier de solutions totalement innovantes.\u00a0\u00bb<\/p>\n
Gr\u00e2ce \u00e0 l’adoption d’une structure de transistors 3D avanc\u00e9e, le proc\u00e9d\u00e9 propri\u00e9taire FinFET 10 nm (10LPE) offre des am\u00e9liorations suppl\u00e9mentaires en termes de technologie de gravure et d’optimisation de la conception par rapport \u00e0 son pr\u00e9d\u00e9cesseur 14 nm. Son rendement augmente de 30 % et ses performances de 27 %, et ce pour une r\u00e9duction de sa consommation d’\u00e9nergie de 40 %.
\nPour surmonter les limites d’\u00e9chelle, des techniques de pointe comme le triple-s\u00e9quen\u00e7age (triple-patterning) pour permettre le routage bidirectionnel ont \u00e9galement \u00e9t\u00e9 mises en \u0153uvre. Il est donc d\u00e9sormais possible de conserver la flexibilit\u00e9 de conception et de routage des n\u0153uds pr\u00e9c\u00e9dents.<\/p>\n
Apr\u00e8s l’introduction du proc\u00e9d\u00e9 de gravure 10 nm de premi\u00e8re g\u00e9n\u00e9ration 10LPE, Samsung envisage la production en s\u00e9rie du proc\u00e9d\u00e9 de deuxi\u00e8me g\u00e9n\u00e9ration 10LPP offrant de meilleures performances lors du deuxi\u00e8me semestre 2017. En outre, de nombreux proc\u00e9d\u00e9s d\u00e9riv\u00e9s pourront r\u00e9pondre aux besoins d’un large \u00e9ventail d’applications.<\/p>\n
En \u00e9troite collaboration avec ses clients et ses partenaires, cette entreprise a pour objectif de renforcer l\u2019\u00e9cosyst\u00e8me de fonderie 10 nm qui comprend la v\u00e9rification du flux de r\u00e9f\u00e9rence, des IP et des biblioth\u00e8ques.<\/p>\n
Des kits de conception de la technologie PDK (process design kit ) au niveau production et des kits de conception IP sont actuellement propos\u00e9s pour les d\u00e9buts de conception.<\/p>\n
Les syst\u00e8mes sur puce \u00e0 technologie de gravure 10 nm \u00e9quiperont les dispositifs num\u00e9riques lanc\u00e9s en d\u00e9but d’ann\u00e9e et seront donc plus r\u00e9pandus courant 2017.<\/p>\n