{"id":131118,"date":"2018-02-06T08:13:31","date_gmt":"2018-02-06T08:13:31","guid":{"rendered":"https:\/\/\/pistol-une-nouvelle-chaire-dans-le-domaine-des-semi-conducteurs\/"},"modified":"2018-02-06T08:13:31","modified_gmt":"2018-02-06T08:13:31","slug":"pistol-une-nouvelle-chaire-dans-le-domaine-des-semi-conducteurs","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.ecinews.fr\/fr\/pistol-une-nouvelle-chaire-dans-le-domaine-des-semi-conducteurs\/","title":{"rendered":"PISTOL : une nouvelle chaire dans le domaine des semi-conducteurs"},"content":{"rendered":"<p>Ce projet est financ\u00e9 \u00e0 parts \u00e9gales par Total et l\u2019Agence Nationale de la Recherche sur une p\u00e9riode de quatre ans. Il est port\u00e9 par Erik Johnson, chercheur CNRS au Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces (LPICM, CNRS \/ l\u2019\u00c9cole polytechnique).<\/p>\n<p>Les principaux objectifs de la Chaire industrielle PISTOL portent sur la mise en \u0153uvre de nouveaux proc\u00e9d\u00e9s de traitements par plasma pour les semi-conducteurs. Les proc\u00e9d\u00e9s bas\u00e9s sur les plasmas sont des techniques largement r\u00e9pandues dans l&rsquo;industrie pour la croissance contr\u00f4l\u00e9e de mat\u00e9riaux (\u00e9crans plats, photovolta\u00efque, capteurs,&#8230;) ou la gravure de tr\u00e8s grande qualit\u00e9 en terme d\u2019uniformit\u00e9 sur des surfaces importantes (micro\u00e9lectronique).<\/p>\n<hr \/>\n<p>Dans ce contexte, PISTOL (Plasma Processing of Industrial SemiconducTOrs at Low Cost) a pour objectif d\u2019enrichir ces proc\u00e9d\u00e9s en ajoutant un \u00e9l\u00e9ment de s\u00e9lectivit\u00e9 en surface et en profondeur, soit pour obtenir un motif particulier de semiconducteur, soit pour appliquer un traitement sp\u00e9cifique \u00e0 un endroit pr\u00e9cis. Il s\u2019agit d\u2019une avanc\u00e9e importante pour les applications dans les domaines du photovolta\u00efque, de la micro\u00e9lectronique, et des nouvelles g\u00e9n\u00e9rations de capteurs et d\u2019\u00e9crans. La chaire industrielle PISTOL vise, \u00e0 terme, \u00e0 r\u00e9duire les co\u00fbts de production et \u00e0 favoriser de nouvelles pistes de recherche sur des architectures innovantes de composants \u00e9lectroniques.<\/p>\n<p>Les activit\u00e9s scientifiques de PISTOL se d\u00e9rouleront principalement au Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces (LPICM, CNRS \/ l\u2019\u00c9cole polytechnique). Elles profiteront \u00e9galement des plateformes d\u2019\u00e9quipements scientifiques install\u00e9es par les \u00e9quipes de TOTAL au sein de l\u2019Institut photovolta\u00efque d\u2019Ile-de-France (IPVF) \u00e0 Palaiseau. Le financement d\u00e9di\u00e9 au projet PISTOL permettra l\u2019engagement de deux chercheurs post-doctorants sur quatre ans et d\u2019un doctorant dont le sujet de th\u00e8se portera sur le d\u00e9p\u00f4t s\u00e9lectif par plasma.<\/p>\n<p><a href=\"http:\/\/www.cnrs.fr\/\">http:\/\/www.cnrs.fr\/<\/a>&nbsp; &nbsp;&#8211;&nbsp; &nbsp;<a href=\"http:\/\/www.electronique-eci.com\/search\/node\/cnrs\">Autres informations concernant le CNRS<\/a><\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>L\u2019Agence nationale de la recherche, le CNRS, l\u2019\u00c9cole polytechnique et Total ont annonc\u00e9 la cr\u00e9ation de la chaire industrielle ANR PISTOL1 . Cette chaire rassemble une \u00e9quipe de recherche commune dont l&rsquo;objectif est \u00a0de d\u00e9velopper de nouveaux proc\u00e9d\u00e9s de traitement par plasma pour les semiconducteurs. 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